湍流射流冲击移动平板的流动和传热分析
【出 处】:
【作 者】:
叶纯杰
;
潘红良
【摘 要】采用雷诺应力湍流模型对半封闭射流冲击移动平板进行了数值分析,得到了不同平板速度下的流场和温度场结构以及近壁面湍流强度和平板表面局部努谢尔数分布曲线。结果表明,平板速度的提高会导致流场和温度场关于射流中心线呈现非对称性,且在流场一侧形成二次漩涡区。平板表面的湍流强度值随平板速度的提高而提高,而冲击区域的局部努谢尔数峰值则随平板速度的提高而降低。当平板速度大于入口射速时,表面平均努谢尔数值随平板速度的提高而逐渐升高。当平板速度提高到入口射流速度两倍时,冲击点处的平板表面湍流强度值升高了约40%,努谢尔数峰值下降了约60%,而平板表面的平均努谢尔数值则提高了30%以上。